一项调查指出，住在美国的外国人提出的专利申请在过去10年增加两倍，但由于签证的上限迫使企业家回国，在中国、印度和其它国家成立与美国竞争的公司，调查称此趋势为「逆向人才外流」(reverse brain drain)。

来自哈佛、杜克和纽约大学的研究人员22日将发表对国际专利申请的分析，他们警告若不进行移民改革，高技能移民将离开美国，而美国的竞争力将受影响。

主要研究员魏德华(Vivek Wadhwa)说：「我们把高技能人才带进来，在美国企业训练他们，使他们了解营销，接著我们又迫使他们回国与我们竞争。企业失去人才，员工不满、愤怒。这是双输的局面。」

在新德里出生的魏德华是杜克和哈佛的工程与商业讲师，他与同事成立了一个发明家资料库，收集从1998年到2006年向世界智能财产权组织(WIPO)提出申请的资料。研究员想确定多少人提出申请时，住在美国但没有美国国籍或永久居留权。

根据该报告，1998年从美国向WIPO申请专利的外国人为7.3%，到了2006年增加两倍多，达到24.2%。虽然WIPO没有规定申请人列出国籍，但是研究人员阅读每份申请文件后发现，提出申请的外国人中，住在美国有中文姓氏者从1998年的11.2%增加到2006年的16.8%。有印度姓氏者则从1998年的9.5%增加到2006年的13.7%。

外国人申请专利最多的地方是科技重镇加州，占了该州WIPO申请的三分之一，其它重要的州为麻州、纽约州、德州和新泽西州。

在科技先锋公司Qualcomm和默克药厂，外国人的专利申请占了至少65%，美国政府机构的WIPO申请中，外国人占了41% 。

虽然外国人的专利申请增加，但是美国却未让更多发明家留下来。高技能员工的一种永久签证EB每年名额为12万120，一个国家的名额约为8400。由于印度和中国的经济起飞，研究员警告企业家拥有五年前并不存在的机会，而且他们祖国的住房费用较低，也更接近亲戚。

魏德华反映硅谷员工的关注表示，美国应大幅增加高技能移民的永久居留签证。